微弧離子鍍: 將真空腔內(nèi)的伏安特性置于由穩(wěn)態(tài)的輝光放電向穩(wěn)態(tài)的弧光放電過渡時(shí)，氣體放電雙峰曲線上客觀存在的非穩(wěn)態(tài)正反歐姆轉(zhuǎn)變區(qū)間，利用因靶面放電而產(chǎn)生的熱積累至局部微熔的延緩間隔，實(shí)現(xiàn)靶面鍍料粒子經(jīng)濺射的級聯(lián)碰撞脫靶機(jī)制演變?yōu)闊岚l(fā)射脫靶（未達(dá)到熔融噴射程度）機(jī)制，從原理上既提高了脫靶粒子的離化率，又避免了“微熔滴”噴射的“高溫效應(yīng)”。 微弧離子鍍的開發(fā)是結(jié)合了濺射鍍膜與多弧鍍膜兩者鍍料粒子濺射出與沉積成膜上的優(yōu)點(diǎn)，同時(shí)也避免了兩者在成膜過程中的不足之處，使成膜質(zhì)量與效率得以大幅提高。
